，主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成，其主要作用是去除水中的杂质，使出水满足使用要求。反渗透设备适用范围后处理是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置，主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高，使之满足使用要求。
清洗是当反渗透系统受到污染出水指标不能满足要求时，需要对反渗透进行清洗使之恢复功效。电气控制是用来控制整个反渗透系统正常运行的，包括仪表盘、控制盘、各种电器保护、电气控制柜等。
清洗方法对于保持反渗透净水设备性能至关重要。当技术因具有特殊性而得到日益广泛的应用时，对于不了解如何管理和维护的人来说，这可能会导致损失。在管理好反射光设备，就可以避免出现严重的问题。
低压冲洗定期对逆向-osmotic装置进行大流量、高速流动状态下的低压冲洗有利于剥除附着在膜表面上的污垢，并且每1~3d低压冲洗一次，可以维持膜性能，或当进水SDI突然升高超过5.5以上时，应进行低压冲洗，待SDI值调至合格后再开机。
停运保护由于生产的波动，不可避免地要经常停运短期或长期停用时必须采取保护措施，不适当地处理会导致膜性能下降且不可恢复。对于停运15d以下的系统，可采用每1~3d低压冲浪法来保护逆向-osmotic装置实践发现，当温度20℃以上时，在存放3d内就会发臭变质，有大量细菌繁殖，因此建议在温度高于20℃时，每2d或1d低压冲浪一次，而温度低于20℃时，可以每3d次进行同样操作，每次完成后的所有进出口阀门需关闭。
长期停用的情况下必须充入杀菌剂（如甲醛10mg/L）以防止细菌生长。在正常运行条件下，由无机物垢、小颗粒物体微生物沉积造成问题，这些都可能引起净化效果减弱甚至造成不可修复损害，所以化学清洁非常必要，以此回复良好的过滤能力和盐分排除率。此外，如果有必要，则需要改善预处理过程或调整工作参数。如果频繁清洁则可能表示预处理环节存在问题并需要进一步评估与优化。
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